高速光模块时钟解决方案YSO233UJ通过高基频光刻工艺实现超低抖动
在高速数据通信与光模块领域，时钟源的选择直接决定系统的传输速率与链路稳定性。扬兴科技 YSO233UJ系列差分晶振，特别针对光模块关键频点 156.25MHz与 312.5MHz优化设计，以超低抖动、宽温稳定和高可靠性，为 800G、1.6T、3.2T光模块
光刻
神秘芯片初创公司浮出水面 意图挑战行业巨头阿斯麦和台积电
这家名为Substrate的公司开发了一种新型的芯片生产设备，利用粒子加速来完成光刻这一将微电路蚀刻到硅晶圆上的关键工序。Substrate声称已解决了技术领域最棘手的问题之一，并希望与阿斯麦展开竞争。目前，阿斯麦的设备是制造先进处理器的唯一选择。
一个辍学生，同时挑战ASML和台积电
过去十年，半导体的生产一直由一台校车大小的机器完成，该机器利用光在耗资250亿美元的无菌工厂内将图案蚀刻到硅晶片上。这台由荷兰公司ASML生产的机器对智能手机、人工智能系统中的芯片至关重要，以至于华盛顿实际上已经限制其销售。
光刻胶企业有哪些？恒坤新材等十大核心供应商推荐
厦门恒坤新材料科技股份有限公司（以下简称“恒坤新材”）是国内少数能够实现光刻材料及半导体前驱体材料规模量产并稳定供货的企业之一，公司已量产供货产品包括SOC、BARC、i-Line光刻胶、KrF光刻胶等光刻材料以及TEOS等前驱体材料。其中，SOC和BARC产
Substrate公司研发新型光刻设备，欲挑战阿斯麦与台积电
格隆汇10月28日｜一家神秘的美国初创公司正崛起，目标是挑战半导体行业的两大巨头：阿斯麦和台积电。这家公司名为Substrate，它研发了一种新型芯片制造设备，利用粒子加速来进行光刻——这是在硅晶圆上蚀刻微观电路的关键工艺。Substrate声称已解决了科技领
国内团队称破解芯片光刻瓶颈问题
说白了，这波热度不是因为哪家公司业绩爆表，而是因为一篇论文把“看不见的事儿”给看清了。论文登在《Nature Communications》，第一作者和主攻团队来自北京大学化学与分子工程学院，负责人是彭海琳。关键点是：他们把冷冻电子断层扫描（Cryo-ET）这
国产光刻突破！首个EUV光刻胶标准立项，北大实现分辨率优于5nm
另外在技术突破层面，本月早些时候，北京大学化学与分子工程学院团队，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米。
国产光刻机又做出来了？听前光刻工艺工程师分析分析！
大家好，我是靖崴同学。最近又收到了很多关于国产光刻机造出来的推送，这应该是过去几年里的第N次听到这样的消息。我之前在一家大厂做过3年多的光刻工艺研发，算是光刻机公司的甲方儿子。所以想叭叭两句个人看法，为什么我们是甲方但不是爸爸而是儿子？这个在视频最后会再跟大家
东方晶源：三大创新点工具破解先进制程良率瓶颈
当前，随着芯片工艺向先进节点快速演进，制程节点不断逼近物理极限，技术难度呈几何级增长，叠加AI芯片高算力需求、Chiplet多芯片集成等技术趋势，芯片版图复杂度进一步指数级提升，设计与制造环节的协同难度显著加大。
国内团队破解芯片光刻缺陷难题？研究者回应一财
10月27日，多只光刻胶概念股飘红，收盘万润股份涨停，晶瑞电材涨超16%，艾森股份涨超6%，南大光电涨超5%，彤程新材涨超4%。消息面上，国内研究团队在光刻胶领域取得了新的研究突破。
从技术突破到标准建立，国产光刻胶产业加速前行，哪些企业领跑？
消息面上，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
重大突破！芯片，大消息！
近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
芯片双热点：存储涨价与光刻突破的“芯”逻辑
从市场端看，存储芯片涨价是供需与资本共振的结果。三星、SK海力士等巨头上调DRAM和NAND闪存价格，全球对冲基金趁机大举买入芯片股，国内存储产业链概念股如江波龙、德明利也随之走强。这轮涨价源于AI驱动的存储需求激增，叠加行业库存周期调整，形成了“超级周期”的
填补空白！EUV光刻胶标准立项，技术突破好消息不断（附股）
国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。
首次！我国芯片领域取得新突破，北大团队破解光刻技术难题
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案
国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）九年回顾
第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在广东深圳顺利落下帷幕。九年时间，犹如白驹过隙，转瞬即逝，回顾IWAPS发展的九年历程，始终如一的专业坚守，为中国先进光刻技术发展持续注入动力。
ASML公司CEO：中国正在尝试开发自主设备，准备抛弃掉我们的光刻
包括ASML在内的全球芯片产业链正在面临着许多不确定性的因素，人工智能的到来让ASML的业务发展快速上升，国际芯片产业对于先进芯片、高水平DRAM存储的需求将会持续增长。
就在今晚发布！iQOO 15的&
一块出色的屏幕是我们感知世界的重要窗口。好的手机屏幕一定不会差！今晚发布的iQOO 15就搭载了2K三星珠峰屏，正是这样一扇通往极致视觉体验的窗口，给我们带来了满满的诚意！
深圳湾芯展震撼一幕！中国芯片全链条突破从光刻设备到EUV光刻胶
2025年10月的深圳，一场半导体展会正悄然改写全球芯片产业格局。在WeSemiBay半导体生态博览会上，中国企业集中亮出“硬核成绩单”：上海微电子旗下子公司Amies Technologies的化合物半导体光刻设备已实现量产交付，华为参股的SiCarrier
芯片越小，AI 越狂？
在计算机芯片领域，数字越大越好：更多核心、更高GHz 频率和更高 FLOP 性能，这些都是工程师和用户共同追求的。然而，有一个指标却与之相反：越小越好。欢迎来到半导体制造和技术节点（也称为工艺节点）的世界。